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LV100ND
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ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造,可滿足多領域的工業應用,其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能,可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射/透射組合照明模式以滿足任何應用需求.

可支持多種觀察方法:明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外,LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。

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